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    • 专利摘要:
    Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte unter Verwendung einer Aluminiumplatte als ein Träger offenbart, welches umfaßt, daß der Aluminiumträger nach einer Anodisierungsbehandlung einer Behandlung in einem Alkalisilikat mit einer Konzentration von SiO¶2¶ von 1 bis 4 Gew.-%, einer Konzentration eines Alkalimetallhydroxids von 0,5 bis 5 Gew.-% und einem Molverhältnis von SiO¶2¶/M¶2¶O, wobei M ein Alkalimetall darstellt, im Bereich von 0, 3 bis 1,5 bei 50 bis 70 DEG C für 20 Sekunden oder kürzer unterworfen wird.
    公开号:DE102004015253A1
    申请号:DE200410015253
    申请日:2004-03-29
    公开日:2005-03-17
    发明作者:Yutaka Araki；Akira Furukawa；Hideo Kiyoyama；Takashi Miyazaki
    申请人:Mitsubishi Paper Mills Ltd；
    IPC主号:B41C1-10
    专利说明:
    [0001] DieserErfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte unter Verwendung einer Aluminiumplatteals einem Trägerund ein Verfahren zur Bearbeitung derselben.
    [0002] Einin breitem Umfang genutzter Typ von lithographischer Druckplattebesitzt einen lichtempfindlichen Überzugsfilm, der auf einemAluminiumträgeraufgebracht ist. Dieser Überzugsfilmhärtetaus, wenn er Licht ausgesetzt wird, und der nicht-ausgesetzte Teilwird durch eine Entwicklungsbehandlung gelöst. Dieser Typ einer Plattewird als eine Negativdruckplatte bezeichnet. Eine lithographischeDruckplatte nutzt Oberflächeneigenschafteneines Musters, das auf der Oberfläche der lithographischen Druckplatteausgebildet ist, und eines Hintergrundbereiches mit lipophiler Eigenschaftbzw. hydrophiler Eigenschaft. Wenn man einen lithographischen Druckdurchführt,werden gleichzeitig Tinte und dampfendes Wasser auf die Druckoberfläche einer Druckpresseaufgebracht und die Tinte wird selektiv auf das Muster mit lipophilerEigenschaft übertragen.Die auf das Muster übertrageneTinte wird dann auf ein Zwischenmaterial übertragen, das als ein Drucktuchbezeichnet wird, und weiter auf ein Druckpapier übertragen, wodurch das Druckendurchgeführtwird.
    [0003] VieleForschungsarbeiten sind herkömmlicherweisedurchgeführtwurden zur lichtempfindlichen Zusammensetzung zur Ausbildung einesReliefbildes unter Nutzung der Veränderung der Löslichkeitdurch die Photoreaktion, wie oben erwähnt, und praktisch anwendbareMaterialien sind bereitgestellt worden. Zum Beispiel ist in denjapanischen PatentveröffentlichungenNr. 34041/1974 und Nr. 105353/1994 und U.S.-Patent Nr. 5,153,095,etc. eine lichtempfindliche Zusammensetzung offenbart worden, diehauptsächlichein Polymer mit einer ethylenisch ungesättigten Bindung in der Seitenkette,ein Vernetzungsmittel und einen Photopolymerisationsinitiator umfaßt. Solcheine Zusammensetzung hat lichtempfindliche Eigenschaften gegenüber Lichtmit einer kurzen Wellenlänge,die hauptsächlichin dem Bereich mit ultravioletten Strahlen bei 400 nm oder kürzer liegt.
    [0004] Andererseitsist in den letzten Jahren gewünschtgewesen, ein lichtempfindliches Material mit hoher Empfindlichkeitgegenübersichtbaren Strahlen zu entwickeln, einhergehend mit dem Fortschrittbei Bildgebungstechniken. Zum Beispiel sind aktiv Forschungen aneinem lichtempfindlichen Material und einer lichtempfindlichen lithographischenPlatte durchgeführt worden,im Zusammenhang mit einer Ausgabemaschine unter Verwendung von Argon-Laser,Helium-Neon-Laser, Rotlicht-LED, etc.
    [0005] Überdieskann, im Zusammenhang mit dem merkbaren Fortschritt bei Halbleiterlasern,eine Quelle für Laserlichtim nahen Infrarotbereich mit 700 nm bis 1300 nm leicht verwendetwerden, wodurch ein lichtempfindliches Material und eine lichtempfindlichelithographische Druckplatte, entsprechend besagten Laserlichts, Aufmerksamkeitauf sich gezogen hat.
    [0006] Alseine photopolymerisierbare Zusammensetzung mit lichtempfindlichenEigenschaften bei den oben erwähntensichtbaren Strahlen bis zu Strahlen im nahen Infrarotbereich sindoffenbart worden: eine lithographische Druckplatte, die eine radikalischpolymerisierbare Verbindung mit einer ethylenisch ungesättigtenBindung, einen photosensibilisierbaren Farbstoff mit einem Absorptionspeakbei 400 bis 500 nm und einen Polymerisationsinitiator enthält, in derjapanischen vorläufigenPatentveröffentlichungNr. 134007/1997; eine Kombination aus einem organischen Bor-Anionund einem Farbstoff, in der japanischen vorläufigen PatentveröffentlichungNr. 2000-98603; eine Kombination aus einem Farbstoff und einer s-Triazin-Verbindung, in derjapanischen vorläufigenPatentveröffentlichungNr. 43633/1994; und eine Kombination aus einem Resolharz, einemNovolakharz, einem Absorber fürInfrarotstrahlen und einem Photosäuregenerator, in der japanischen vorläufigen PatentveröffentlichungNr. 20629/1995.
    [0007] DieEigenschaften der lithographischen Druckplatten, die mit den obengenannten Verfahren erhalten werden, sind merklich beeinflußt von einerzu verwendenden lichtempfindlichen Schicht, deren Anhaftung an einemAluminiumträgerund den hydrophilen Eigenschaften (ölabstoßenden Eigenschaften) des Aluminiumträgers. Dasheißt,daß dieAdhäsionskraftim großenUmfang die Dauerhaftigkeit beeinflußt und die Hydrophilie dieFleckbeständigkeitin einem Nicht-Bildbereich.
    [0008] Demgemäß ist, umdie Eigenschaft der lithographischen Druckplatte zu verbessern,bekannt gewesen, eine Hydrophilie verleihende Behandlung, wie etwaeine Silikat-Behandlung, an der Oberfläche eines Aluminiumträgers für eine lithographischeDruckplatte nach der Anodisierungsbehandlung durchzuführen. Eskönnenzum Beispiel ein Verfahren zur Ausbildung eines Silikat-Films aufeinem Trägernach Heißwasserbehandlungdurch Eintauchen in eine Silikat-Lösung (japanischevorläufigePatentveröffentlichungNr. Hei. 10-244637, Seiten 2 – 4)oder ein Verfahren zum Einbringen einer Silikonverbindung nach derSilikat-Behandlung (japanische vorläufige PatentveröffentlichungNr. Hei. 10-97056, Seite 3) erwähntwerden. Wenn solch eine Hydrophilie verleihende Behandlung an derOberflächeeines Aluminiumträgersfür einelithographische Druckplatte durchgeführt wird, haftet Tinte zumZeitpunkt des Druckens nur schlecht an einem Nicht-Bildbereich derlithographischen Druckplatte an, der hydrophob ist, und die Fleckbeständigkeitwird verbessert. Wenn die Hydrophilie verleihende Behandlung ander Oberflächeeines Aluminiumträgersbei einer lithographischen Druckplatte durchgeführt wird, sinkt die Adhäsionskraftzwischen einer lichtempfindlichen Schicht, die hydrophob ist, einerRohplatte der lithographischen Druckplatte und dem Aluminiumträger, sodaß dasProblem auftritt, daß die Druckdauerhaftigkeitvermindert wird, wenn die Platte als eine lithographische Druckplatteverwendet wird.
    [0009] EineAufgabe der vorliegenden Erfindung ist, ein Verfahren zur Herstellungeiner lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte unter Verwendungeiner Aluminiumplatte als einem Träger bereitzustellen, indem eineHydrophilie verleihende Behandlung angewendet wird, wodurch dieFleckbeständigkeitverbessert wird und weiter die Druckdauerhaftigkeit ebenfalls hervorragendist, und ein Verfahren zur Bearbeitung der lichtempfindlichen lithographischenDruckplatte bereitzustellen, die mit demselben erhalten wird.
    [0010] DieErfinder im vorliegenden Fall haben intensive Studien betrieben,um die oben genannten Aufgaben zu lösen und als ein Ergebnis habensie ein Verfahren zur Herstellung eine licht empfindlichen lithographischenDruckplatte unter Verwendung einer Aluminiumplatte als einem Träger gefunden,welches umfaßt,daß derAluminiumträgernach einer Anodisierungsbehandlung einer Behandlung in einem Alkalisilikatmit einer Konzentration von SiO2 von 1 bis4 Gew.-%, einer Konzentration eines Alkalimetallhydroxids von 0,5bis 5 Gew.-% und einem MolverhältnisSiO2/M2O, wobeiM ein Alkalimetall darstellt, im Bereich von 0,3 bis 1,5 bei 50bis 70°Cfür 20Sekunden oder kürzerunterworfen wird.
    [0011] Überdiesumfaßtein Verfahren zur Bearbeitung der lichtempfindlichen lithographischenDruckplatte der vorliegenden Erfindung, daß die oben genannte lithographischeDruckplatte nach der Bildentstehung einer Entwicklung mit einemwässrigenEntwickler mit einem pH von 10 bis 12 unterworfen wird.
    [0012] 1 ist eine Rasterelektronenmikroskopiephotographie,in der ein Oberflächenzustanddes Aluminiumträgers,erhalten in der vorliegenden Erfindung 5 von Beispiel 1, photographiertwurde.
    [0013] ImFolgenden werden die Ausführungsformender vorliegenden Erfindung detailliert erläutert.
    [0014] Gemäß der lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte der vorliegenden Erfindung kann die Druckdauerhaftigkeitverbessert werden, währenddie Fleckbeständigkeitim Nicht-Bildbereichverbessert wird. Im Verfahren der vorliegenden Erfindung kann festgestelltwerden, daß,wenn ein Aluminiumträgerin eine Lösungmit der oben genannten Zusammensetzung getaucht wird, eine Feinstrukturauf der Oberflächedes Trägersausgebildet werden kann (siehe 1),währendsich ein Film aus einem Silikat bildet, was verschieden ist vonden herkömmlichenVerfahren zur Ausbildung eines Silikat-Filmes. Durch die Ausbildungder Feinstruktur kann die Druckdauerhaftigkeit eines Bildbereichesverbessert werden und weiter könnenDruckflecke in einem Nicht-Bildbereich durch die Ausbildung desSilikat-Films verhindert werden. Überdies kann festgestellt werden,wie in den unten genannten Beispielen gezeigt, daß die Druckdauerhaftigkeitweiter verbessert werden kann, indem die Druckplatte mit einem Entwicklerbehandelt wird, der vorzugsweise einen pH von 10 bis 12 aufweist.Auf die lichtempfindliche lithographische Druckplatte der vorliegendenErfindung ist ein hydrophile Behandlung angewendet worden, so daß sie hervorragendin der Fleckbeständigkeitist, zusätzlichzu einer hervorragenden Druckdauerhaftigkeit. Die lichtempfindlichelithographische Druckplatte der vorliegenden Erfindung kann geeigneterweisezur Herstellung einer Rohplatte einer thermischen lithographischenNegativdruckplatte verwendet werden.
    [0015] Dieals ein Trägerder lichtempfindlichen lithographischen Druckplatte der vorliegendenErfindung zur verwendende Aluminiumplatte umfaßt ein hauptsächlich Aluminiumenthaltendes Metall, das dimensionsmäßig stabil ist, und umfaßt Aluminiumoder eine Aluminiumlegierung.
    [0016] Inder folgenden Erläuterungwerden verschiedene Arten von Substraten, die Aluminium oder eineAluminiumlegierung umfassen, wie oben erwähnt, als eine Aluminiumplattebezeichnet. Als eine Heteroelement, das in der oben genannten Aluminiumlegierungenthalten sein kann, könnenSilicium, Eisen, Mangan, Kupfer, Magnesium, Chrom, Zink, Bismut,Nickel, Titan und dergleichen erwähnt werden, und der Gehaltdes Heteroelements in der Aluminiumlegierung beträgt 10 Gew.-%oder weniger. Ein Gehalt an Kupfer beträgt besonders bevorzugt 0 bis0,05 Gew.-%.
    [0017] Inder vorliegenden Erfindung ist es angemessen, eine reine Aluminiumplattezu verwenden, aber es ist angesichts der Reinigungstechnologie schwierig,eine vollständigreine Aluminiumplatte herzustellen, so daß eine geringe Menge des Heteroelementsenthalten sein kann. Wie oben erwähnt, ist die in der vorliegendenErfindung zu verwendende Aluminiumplatte nicht spezifisch in derZusammensetzung beschränktund herkömmlichgut bekannte und weit verbreitete Materialien können fakultativ eingesetztwerden, einschließlich Plattenaus Aluminiumlegierung, wie etwa JIS A1050, JIS A1100, JIS A3005,JIS A3004, International Registration Legierung 3103A und dergleichen.Ein Verfahren zur Herstellung der Aluminiumplatte kann entweder dasStranggußsystemoder das DC-Gußsystemsein, und eine Aluminiumplatte kann verwendet werden, bei der eineZwischenannelierung oder gleichförmigeWärmebehandlungim DC-Gußsystemweggelassen ist. Auch kann eine Aluminiumplatte verwendet werden,auf die Unebenheit aufgebracht worden ist durch Laminierungswalzenoder -transfer, etc. beim abschließenden Walzen. Die Dicke derin der vorliegenden Erfindung zur verwendenden Aluminiumplatte beträgt etwa0,1 mm bis etwa 0,6 mm. Die Dicke kann fakultativ gemäß der Größe einerDruckmaschine, der Größe einerlithographischen Druckplatte oder einer Anforderung durch einenBenutzer verändertwerden.
    [0018] DerAluminiumträgerfür dielithographische Druckplatte der vorliegenden Erfindung kann erhalten werden,indem die oben genannte Aluminiumplatte einer Annelisierungsbehandlungund einer hydrophilen Behandlung unterzogen wird. Im Herstellungsverfahrenfür denAluminiumträgerkönnenverschiedene andere Schritte als die obige Annelisierungsbehandlungund hydrophile Behandlung enthalten sein.
    [0019] Dieobige Aluminiumplatte wird üblicherweiseeiner Aufrauungsbehandlung unterworfen, um eine bevorzugtere Formzu erhalten. Als die Aufrauungsbehandlung kann ein mechanischesAufrauen (eine mechanische Oberflächenaufrauungsbehandlung),wie offenbart in der japanischen vorläufigen PatentveröffentlichungNr. Sho. 56-28893, ein chemisches Ätzen, ein elektrolytischesSchleifen, etc. verwendet werden. Überdies kann ein elektrochemischesAufrauungsverfahren verwendet werden (eine elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlung,eine Elektrolysenoberflächenaufrauungsbehandlung),bei dem ein Material elektrochemisch aufgeraut wird in einer elektrolytischenSalzsäurelösung oderelektrolytischen Salpetersäurelösung, undein mechanisches Aufrauungsverfahren (eine mechanische Oberflächenaufrauungsbehandlung), wieetwa ein Drahtbürstenschleifverfahren,bei dem eine Aluminiumoberflächemit Metalldraht aufgeraut wird, ein Kugelschleifverfahren, bei demeine Aluminium oberflächemit Mahlkugeln und einem Mahlhilfsstoff aufgeraut wird, ein Bürstenschleifverfahren,bei dem eine Oberflächemit einer Nylonbürsteund einem Mahlhilfsstoff aufgeraut wird, etc. Diese Aufraungsverfahrenkönneneinzeln oder in Kombination verwendet werden. Zum Beispiel kanneine Kombination auf einer mechanischen Oberflächenaufrauungsbehandlung miteiner Nylonbürsteund einem Mahlhilfsstoff und einer Elektrolyseoberflächenaufrauungsbehandlungunter Verwendung einer elektrolytischen Salpetersäurelösung odereine Kombination aus mehreren der Elektrolyseoberflächenaufrauungsbehandlungenerwähntwerden.
    [0020] BeimBürstenschleifverfahrenkann die durchschnittliche Tiefe der konkaven Bereiche in Richtungeiner Komponente der Oberflächeder Aluminiumträgersmit langer Wellenlängegesteuert werden durch fakultative Auswahl entsprechender Bedingungen,wie etwa einem durchschnittlichen Korndurchmesser und einer maximalenKorngröße der alseinem Mahlhilfsstoff zu verwendenden Teilchen, Haardurchmesser,Haardichte und dem Druck der Bürste,mit dem diese aufgedrücktwird, etc. Die konkaven Abschnitte, die mit dem Bürstenschleifverfahrenerhalten werden, haben vorzugsweise eine durchschnittliche Wellenlänge von3 bis 15 μm undeine durchschnittliche Tiefe von 0,3 bis 1 μm.
    [0021] Daselektrochemische Oberflächenaufrauungsverfahrenschließtvorzugsweise ein elektrochemisches Verfahren ein, bei dem die Aufrauungchemisch in einer elektrolytischen Salzsäurelösung oder elektrolytischen Salpetersäurelösung durchgeführt wird.Eine Stromdichte derselben ist vorzugsweise eine elektrische Menge aneiner Anode von 50 bis 400 C/dm2. Spezifischerwird es vorzugsweise durchgeführtmit einem Elektrolyten, der 0,1 bis 50 Gew.-% Salzsäure oderSalpetersäureenthält,bei einer Temperatur von 20 bis 100°C für 1 Sekunde bis 30 Minutenmit einer Stromdichte von 100 bis 400 C/dm2 unterVerwendung eines Gleichstroms oder eines Wechselstroms. Gemäß der elektrolytischenOberflächenaufrauungsbehandlungist es leicht, feine Unebenheit auf der Oberfläche bereitzustellen, so daß es möglich ist,die Adhäsionskraftzwischen der lichtempfindlichen Schicht und dem Aluminiumträger zu verbessern.
    [0022] Gemäß der elektrochemischenOberflächenaufrauungsbehandlungnach der mechanischen Oberflächenaufrauungsbehandlungkönnenkrater- oder kammförmigeVertiefungen mit einem durchschnittlichen Durchmesser von 0,3 bis1,5 μm undeiner durchschnittlichen Tiefe von 0,05 bis 0,4 μm auf der Oberfläche der Aluminiumplattemit einem Oberflächenverhältnis von80 bis 100% ausgebildet werden. Wenn die elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlungallein durchgeführtwird, ohne die mechanische Oberflächenaufrauungsbehandlung durchzuführen, istes bevorzugt, eine durchschnittliche Tiefe der Vertiefungen vonweniger als 0,3 μmherzustellen. Die bereitgestellten Vertiefungen haben die Funktion,Flecken im Nicht-Bildbereich einer Druckplatte zu verhindern unddie Druckdauerhaftigkeit zu verbessern. Bei der elektrolytischenOberflächenaufrauungsbehandlungist die elektrische Menge, die notwendig ist, um eine ausreichendeMenge von Vertiefungen auf der Oberfläche bereitzustellen, d.h. dasProdukt aus dem Strom und der Zeit, während der Strom angeschaltetist, eine wichtige Bedingung. Es ist im Hinblick auf Energieeinsparungbevorzugt, eine ausreichende Menge Vertiefungen mit einer geringerenMenge Elektrizitätauszubilden. Eine Oberflächenrauheit nachder Aufliauungsbehandlung hat vorzugsweise eine mathematische durchschnittlicheRauheit (Ra) von 0,2 bis 0,5 μm,gemessen mit einem Cutoff-Wert von 0,8 mm und einer Bewertungslänge von3,0 mm, gemäß JIS B0601-1994.
    [0023] Ander so der Aufrauungsbehandlung unterzogenen Aluminiumplatte wirdvorzugsweise eine chemische Ätzbehandlungdurchgeführt.Als die chemische Ätzbehandlungist ein Ätzenmit einer Säureoder ein Ätzenmit einem Alkali bekannt gewesen, und eine chemische Ätzbehandlungunter Verwendung einer Alkalilösungkann als ein Verfahren erwähntwerden, das im Hinblick auf die Ätzeffizienzbesonders hervorragend ist.
    [0024] Dasgeeigneterweise nach vorliegender Erfindung zu verwendende alkalischeMittel ist nicht spezifisch beschränkt, und es können zumBeispiel Natriumhydroxid, Natriumcarbonat, Natriumaluminat, Natriummetasilikat,Natriumphosphat, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid erwähnt werden.Die Bedingungen fürdie Alkaliätzbehandlungwerden so eingestellt, daß einegelösteMenge Al 0,05 bis 1,0 g/m2 beträgt. Dieanderen Bedingungen sind nicht spezi fisch beschränkt, und die Konzentrationdes Alkalis beträgtvorzugsweise 1 bis 50 Gew.-%, bevorzugter 5 bis 30 Gew.-%, und dieTemperatur des Alkalis beträgtvorzugsweise 20 bis 100°C, bevorzugter30 bis 50°C.Die Alkaliätzbehandlungist nicht nur auf ein Verfahren beschränkt und mehrere Schritte können kombiniertwerden. In der vorliegenden Erfindung kann die Alkaliätzbehandlungnach der mechanischen Oberflächenaufrauungsbehandlungoder vor der elektrochemischen Oberflächenaufrauungsbehandlung durchgeführt werden.In diesem Fall wird die gelösteMenge Al vorzugsweise auf 0,05 bis 30 g/m2 eingestellt.
    [0025] NachDurchführungder Alkaliätzbehandlungwird ein Waschen mit einer Säuredurchgeführt,um auf der Oberflächeverbliebene Flecken (oder Schmutz) zu entfernen. Als die zu verwendendeSäure können Salpetersäure, Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Fluorwasserstoffsäure undFluorborsäureerwähnt werden.Als die schmutzentfernende Behandlungsmethode nach der Elektrolyseoberflächenaufrauungsbehandlungist ein Verfahren des Inkontaktbringens mit Schwefelsäure in einerKonzentration von 15 bis 65 Gew.-% bei einer Temperatur von 50 bis90°C bevorzugterwähnt,wie offenbart in der japanischen vorläufigen PatentveröffentlichungNr. Sho. 53-12739.
    [0026] Wenndie chemische Ätzbehandlungmit einer sauren Lösungdurchgeführtwird, ist die fürdie saure Lösungzu verwendende Säurenicht spezifisch beschränktund zum Beispiel werden Schwefelsäure, Salpetersäure, Salzsäure, etc.erwähnt.Eine Konzentration der Säurelösung beträgt vorzugsweise1 bis 50 Gew.-%. Auch beträgteine Temperatur der Säurelösung vorzugsweise20 bis 80°C.
    [0027] Ander so behandelten Aluminiumplatte, wie oben erwähnt, wird weiter eine Anodisierungsbehandlung durchgeführt. DieAnodisierungsbehandlung kann mit einem Verfahren durchgeführt werden,das in herkömmlicherWeise in diesem Bereich der Technik durchgeführt worden ist. Genauer gesagtkann ein anodisierter Film auf der Oberfläche der Aluminiumplatte ausgebildetwerden, wenn ein Gleichstrom oder ein Wechselstrom durch die Aluminiumplattein einer wässrigenoder nicht-wäßrigen Lösung hindurchgeleitetwird, die wenigstens eine von Schwefelsäure, Phosphorsäure, Chromsäure, Oxalsäure, Amidoschwefel,Benzolsulfonsäure, etc.enthält.
    [0028] Zudiesem Zeitpunkt kann wenigstens eine der Komponenten, die üblicherweisein der Al-Legierungs-Platte,einer Elektrode, Leitungswasser, unterirdischem Wasser, etc., enthaltenist, im Elektrolyten enthalten sein. Überdies können die zweiten und die drittenKomponente zum Elektrolyten zugegeben werden. Die zweiten und drittenKomponenten, die hierin erwähntsind, könnenzum Beispiel ein Ion eines Metalls, wie etwa Na, K, Mg, Li, Ca,Ti, Al, V, Cr, Mn, Fe, Co, Ni, Cu, Zn, etc.; ein Kation wie etwaein Ammonium-Ion; ein Anion wie etwa ein Nitrat-Ion, ein Carbonat-Ion,ein Chlorid-Ion, ein Phosphat-Ion, ein Fluorid-Ion, eine Sulfit-Ion,ein Titanat-Ion, ein Silikat-Ion, ein Borat-Ion etc. mit einer Konzentrationvon 0 bis etwa 1000 ppm im Elektrolyten einschließen.
    [0029] DieBedingungen der Anodisierungsbehandlung können vom zu verwendenden Elektrolytenabhängenund könnennicht einzeln bestimmt werden. Die Bedingungen sind im allgemeineneine Elektrolytkonzentration von 1 bis 80 Gew.-%, eine Flüssigkeitstemperaturvon –5bis 70°C,eine Stromdichte von 0,5 bis 60 A/dm2, eineSpannung von 1 bis 100 V und eine Elektrolysezeit von 10 bis 200Sekunden. Von diesen Anodisierungsbehandlungen ist besonders bevorzugt,die Anodisierungsbehandlung unter hoher Stromdichte in einem Schwefelsäure-Elektrolyten durchzuführen, wieoffenbart in GB-Patent Nr. 1,412,768.
    [0030] Inder vorliegenden Erfindung beträgtdie Menge des anodisierten Films vorzugsweise 1 bis 10 g/m2. Wenn sie weniger als 1 g/m2 ist,werden auf der Platte wahrscheinlich Kratzer oder Fehler erzeugt,während, wennsie 10 g/m2 übersteigt, eine große Mengean elektrischer Energie zur Herstellung erforderlich ist, so daß es wirtschaftlichnachteilig ist. Die Menge des anodisierten Films beträgt bevorzugter1,5 bis 7 g/m2, besonders bevorzugt 2 bis5 g/m2. Nach der Oberflächenaufrauungsbehandlung kanneine Alkaliätzbehandlungvor der elektrochemischen Oberflächenaufrauungsbehandlungdurchgeführtwerden. In diesem Fall wird die Menge an aufzulösendem Al vorzugsweise auf0,05 bis 30 g/m2 eingestellt.
    [0031] Ineiner Flüssigkeit,um den in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Aluminiumträger nachder Anodisierung zu behandeln, besteht ein bevorzugter Bereich für die entsprechendenKomponenten, die in der Flüssigkeitenthalten sein sollen. Das heißt,es ist wesentlich, SiO2 in einem Alkalimetallsilikatmit 1 bis 4 Gew.-%, ein Alkalimetallhydroxid mit 0,5 bis 5 Gew.-%und ein Molverhältnisvon SiO2/M2O (worinM ein Alkalimetall darstellt) im Bereich von 0,3 bis 1,5 zu enthalten.
    [0032] Dieoben genannte Behandlungsflüssigkeithat als Ergebnis einen Flüssigkeits-pHvon 13,1 bis 13,3, so daß sieeinen höherenpH-Bereich als dem pH (10 bis 13) der Behandlungsflüssigkeitfür herkömmlicherweiseim Stand der Technik gut bekannte Silikat-Behandlung aufweist. DerAluminiumträgerwird einer Behandlung durch Verwendung der oben genannten Behandlungsflüssigkeitunterzogen, eine fein hervorstehende Struktur wird auf der Oberfläche zusätzlich zurSilikat-Behandlung ausgebildet, die verschieden ist von der üblichenSilikat-Behandlung.Gemäß diesemVerfahren könnendie hydrophilen Eigenschaften des Nicht-Bildbereiches verbessert werden, während dieAdhäsionskraftzwischen der lichtempfindlichen Schicht und der Oberfläche desAluminiumträgerserhalten bleibt (siehe 1).
    [0033] Wenndie Menge des Alkalimetallhydroxids zu hoch ist oder die Menge anSiO2 zu niedrig ist, wird die fein hervorstehendeStruktur zu stark ausgebildet, so daß die Adhäsion in einem Bildbereich starkist und die Druckdauerhaftigkeit verbessert wird, aber die Auflösung ineinem Nicht-Bildbereich schlecht wird. Andererseits wird der Nicht-Bildbereich,wenn die Menge des Alkalimetallhydroxids zu gering ist oder dieMenge an SiO2 zu hoch ist, nur mit Schwierigkeitenangefärbt,aber die Druckdauerhaftigkeit im Bildbereich wird schlecht.
    [0034] DasAlkalimetallsilikat der vorliegenden Erfindung ist wenigstens eineder Verbindungen, die ausgewähltist aus der Gruppe, die aus Natriumsilikat, Kaliumsilikat und Lithiumsilikatbesteht, und das Alkalimetallhydroxid ist wenigstens eine der Verbindungen,die ausgewähltist aus der Gruppe, die aus Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid undLithiumhydroxid besteht, wobei jede davon einzeln oder in Kombinationvon zwei oder mehreren verwendet werden kann. Wenn der Gehalt derselbenverschieden ist von den oben genannten Bereichen, zum Beispiel wenndas Alkalimetallhydroxid im Überschuß zum obengenannten Bereich zugegeben wird, werden die auf der Oberfläche ausgebildetenVorsprüngezu groß oderbilden sich zu stark aus, so daß eineHintergrundfärbunghervorgerufen wird. Andererseits ist die Silikat-Behandlung, wenn das Alkalimetallsilikatim Überschuß zum obengenannten Bereich zugegeben wird, auf der Oberfläche des Trägers fortgeschritten, aberfeine Vorsprüngewerden auf der Oberflächedes Trägersnicht gebildet, so daß dieAdhäsionskraft zwischeneinem Bildbereich und dem Aluminiumträger schlecht ist und die Druckdauerhaftigkeitzum Zeitpunkt des Durckens ebenfalls schlecht ist, was nicht bevorzugtist. Im Hinblick auf das Alkalimetall-Ion können alle Ionen verwendet werden,da alle von diesen einen feine Vorsprünge bildenden Effekt habenund einen eine mit Silikat behandelte Oberfläche bildenden Effekt haben.Von diesen wird eine Behandlungsflüssigkeit, die ein Kalium-Ionenthält,besonders bevorzugt verwendet, da die Bildung einer Struktur mitfeinen Vorsprüngenhervorragend ist.
    [0035] Wenndie Behandlung unter Verwendung der Behandlungsflüssigkeitder vorliegenden Erfindung durchgeführt wird, bestehen bevorzugteBereiche fürdie Bedingungen. Die Behandlungstemperatur liegt im Bereich von50 bis 70°C,vorzugsweise im Bereich von 55 bis 65°C, und die Behandlungszeit beträgt 20 Sekundenoder kürzer,vorzugsweise 0,5 bis 20 Sekunden, bevorzugter 1 bis 10 Sekunden.Wenn die Behandlung bei einer höherenTemperatur als dem obigen Bereich durchgeführt wird, werden kleine Vorsprünge auf derOberflächestark ausgebildet, so daß eineHintergrundfärbunghervorgerufen wird, wie in dem Fall, wenn das Alkalimetallhydroxidim Überschuß verwendetwird. Wenn andererseits die Behandlung bei einer niedrigeren Temperaturals dem obigen Bereich durchgeführtwird, ist die Bildung der feinen Produkte gering, so daß die Druckdauerhaftigkeitzum Zeitpunkt des Druckens schlecht wird.
    [0036] Ei-Waschverfahren ist in der vorliegenden Erfindung nicht spezifischbeschränktund kann durchgeführtwerden mit einem Sprühverfahren,einem Tauchverfahren und dergleichen. Diese Verfahren können einzelneinmalig oder mehrmalig durchgeführtwerden oder könnenin Kombination von zwei oder mehreren Arten von Verfahren durchgeführt werden.Die Behandlungszeit fürdas Waschen ist nicht spezifisch beschränkt.
    [0037] ZurHerstellung einer Rohplatte der lithographischen Druckplatte unterVerwendung des oben genannten Aluminiumträgers der vorliegenden Erfindungwird ein lichtempfindliches Material auf die Oberfläche des Trägers aufgebrachtund getrocknet, um darauf eine lichtempfindliche Schicht zu bilden.Das lichtempfindliche Material ist nicht spezifisch beschränkt unddiejenigen, die bei herkömmlichenlichtempfindlichen lithographischen Druckplatte verwendet werden,könnenverwendet werden. Es kann zum Beispiel eine herkömmliche lichtempfindliche Positivschichterwähntwerden, die ein Novolakharz und ein Naphthochinondiazid enthält. Die lithographischeDruckplatte, die durch Ausbilden der lichtempfindlichen Schichterhalten wird, wird dann weiter behandelt, indem sie einem Bilddruckunterworfen wird durch Verwendung eins lithographischen Films, Entwicklungund Finishbehandlung, wodurch eine lithographische Druckplatte hergestelltwerden kann, die in einer Druckmaschine angebracht werden kann.
    [0038] Auchkann ein Bild, wenn eine lichtempfindliche Schicht mit einer EmpfindlichkeitgegenüberLaserlicht verwendet wird, direkt unter Verwendung von Laserlichtauf der Schicht gedruckt werden. Es können zum Beispiel eine thermischelichtempfindliche Positivschicht und eine thermische lichtempfindlicheNegativschicht erwähntwerden. Von diesen wird eine thermische Negativschicht besonderesbevorzugt füreine Druckplatte verwendet, da das Bild zum Zeitpunkt der Belichtungvernetzt wird. Der Aluminiumträgerder vorliegenden Erfindung besitzt vorzugsweise eine lichtempfindlicheSchicht, die eine photopolymerisierbare Schicht ist, die wenigstensein Polymer enthält,das ein Monomer mit einer polymerisierbaren Doppelbindung und einerCarboxylgruppe als eine copolymerisierbare Komponente enthält, undein organisches Borat. Solch eine lichtempfindliche Schicht bewirkteine Vernetzungsreaktion durch die Photoenergie von Laserlicht,um ein Bild zu bilden. Wenn die lichtempfindliche Schicht verwendetwird, ist bekannt gewesen, daß esnicht notwendig ist, eine Vorerwärmungnach der Belichtung durchzuführen,und BeständigkeitgegenüberLuftoxidation ist gut als eine thermische Negativdruckplatte. Wennjedoch eine Silikat-Behandlung, wie sie herkömmlicherweise bekannt gewesenist, an solch einer thermischen Negativdruckplatte durchgeführt wird,besteht das Problem, daß die Adhäsionskraftzwischen dem Aluminiumträgerund einem Bildbereich extrem schlecht wird. Dieses Problem kanndurch die vorliegende Erfindung gelöst werden, indem eine Oberflächenbehandlungdes Aluminiumträgersunter den Bedingungen der vorliegenden Erfindung durchgeführt wird,um eine Struktur mit feinen Vorsprüngen auf der Oberfläche auszubilden.Entsprechend der Oberflächenbehandlungkann das Problem bei einer Druckplatte, bei der die Silikat-Behandlungnicht vorsorglich durchgeführtwird, fürdie ein Silikat im Entwickler enthalten sein muß, inhärent gelöst werden. Im folgenden wirddie lichtempfindliche Schicht, die eine photopolymerisierbare Schichtist, die wenigstens ein Polymer, das ein Monomer mit einer photopolymersierbarenDoppelbindung und eine Carboxylgruppe als eine copolymerisierbareKomponente enthält,und ein organisches Borat enthält,detailliert erläutert.
    [0039] Alsein in der vorliegenden Erfindung zu verwendender Photoradikalgeneratorkönnenein aromatisches Keton, eine aromatische Oniumsalz-Verbindung, einorganisches Peroxid, eine Hexaarylbümidazol-Verbindung, eine Ketoximester-Verbindung,eine Azinium-Verbindung, eine Aktivester-Verbindung, eine Trihaloalkyl-substituierteVerbindung und ein organisches Borsalz erwähnt werden. Von diesen wirddas organische Borsalz am bevorzugtesten verwendet und ein organischesBor-Anion, das das organische Borsalz darstellt, wird repräsentiertdurch die folgende Formel (I):
    [0040] Dasobige organische Bor-Anion coexistiert mit einem Kation, das einSalz damit bildet. Als das Kation in diesem Falle können einAlkalimetall-Ion, ein Onium-Ion und ein kationischer Sensibilisierungsfarbstofferwähntwerden. Als das Onium-Ion könnenein Ammonium-Ion, ein Sulfonium-Ion, ein Iodonium-Ion und ein Phosphonium-Ionerwähntwerden. Wenn ein Salz aus dem Alkalimetall-Ion oder dem Onium-Ionund dem organischen Bor-Anoin verwendet wird, kann, wenn ein Sensibilisierungsfarbstoffgetrennt hinzugegeben wird, Empfindlichkeit in einem Wellenlängenbereichverliehen werden, in dem der Farbstoff Licht absorbiert. Auch wird,wenn das organische Bor-Anion als ein Paar-Anion des kationischenSensibilisierungsfarbstoffes enthalten ist, Empfindlichkeit in Abhängigkeitvon der Absorptions-Wellenlängedes Sensibilisierungsfarbstoffes verliehen. Im letzteren Fall istes bevorzugt, das organische Bor-Anion als ein Paar-Anion des Alkalimetallsoder des Onium-Salzes in Kombination zu verwenden.
    [0041] Alsdas in der vorliegenden Erfindung zu verwendende organische Borsalzist es ein Salz, das das organische Bor-Anion, das durch die obengenannte Formel (I) repräsentiertist, und als das Kation, um ein Salz zu bilden, ein Alkalimetall-Ionenthält,und eine Onium-Verbindung wird bevorzugt verwendet. Besonders bevorzugteBeispiele fürdas Onium-Salz mit dem organischen Bor-Anion ist ein Ammoniumsalz,wie etwa Tetraalkylammonium-Salz, etc., ein Sulfoniumsalz, wie etwaTriarylsulfonium-Salz, etc., ein Phosphoniumsalz, wie etwa ein Triarylalkylphosphonium-Salz,etc. Besonders bevorzugte Beispiele für das organische Borsalz sind untenerwähnt.
    [0042] DerGehalt des oben erwähntenPhotoradikalgenerators beträgtvorzugsweise 1 bis 100 Gewichtsteile, bevorzugter 1 bis 40 Gewichtsteile,bezogen auf 100 Gewichtsteile des Bindemittels.
    [0043] Alseine bevorzugte Ausführungsformder vorliegenden Erfindung wird die organische Bor-Verbindung in Kombinationmit einer Trihaloalkyl-substituierten Verbindung als Photoradikalgeneratorenin den lichtempfindlichen lithographischen Druckplattenmaterialverwendet. Durch Verwendung der Trihaloalkyl-substituierten Verbindungin Kombination ist die Haltbarkeit der lichtempfindlichen lithographischenDruckplatte gut. Die hierin erwähnteTrihaloalkyl-substituierte Verbindung bedeutet eine Verbindung mitwenigstens einer Trihaloalkylgruppe, wie etwa einer Trichlormethylgruppeund einer Tribrommethylgruppe, im Molekül. Bevorzugte Beispiele dafür können eins-Triazin-Derivat und ein Oxadiazol-Derivat einschließen, indenen besagte Trihaloalkylgruppe an die stickstoffhaltige heterocyclischeGruppe gebunden ist, oder eine Trihaloalkylsulfonyl-Verbindung,in der besagte Trihaloalkylgruppe an einen aromatischen Ring odereinen stickstoffhaltigen heterocyclischen Ring durch eine Sulfonylgruppegebunden ist.
    [0044] Besondersbevorzugte Beispiele fürdie stickstoffhaltige heterocyclische Ringverbindung, die mit der Trihaloalkylgruppesubstituiert ist (T-1 bis T-15), oder die Trihaloalkylsulfonyl-Verbindung (BS-1bis BS-10) sind unten erwähnt:
    [0045] EinGehalt der oben genannten stickstoffhaltigen heterocyclischen Ringverbindung,die mit der Trihaloalkylgruppe substituiert ist, oder der Trihaloalkylsulfonyl-Verbindungbeträgtvorzugsweise 1 bis 100 Gewichtsteile, bevorzugter 1 bis 40 Gewichtsteile,bezogen auf 100 Gewichtsteile des Bindemittels.
    [0046] Alseine bevorzugte Ausführungsformder vorliegenden Erfindung wird vorzugsweise das organische Borsalzin Kombination mit einem Farbstoff verwendet, der das Salz im lichtempfindlichenlithographischen Druckplattenmaterial sensibilisiert. Das gegenwärtig verwendeteorganische Borsalz ist ein Salz, das keine Empfindlichkeit in demWellenlängenbereichvom sichtbaren Licht bis zum Infrarotlicht zeigt und das durch die Zugabedes Sensibilisierungsfarbstoffes Empfindlichkeit gegenüber demLicht mit solch einem Wellenlängenbereichzeigt.
    [0047] Dielichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung enthält vorzugsweiseeinen Sensibilisator, der eine Absorption in einem Wellenlängenbereichvom sichtbaren Licht bis zum Infrarotlicht hat und den oben genanntenPhotoradikalgenerator so sensibilisieren kann, daß die Zusammensetzungauf verschiedene Lichtquellen vom sichtbaren Licht bis zum Infrarotlichtansprechen kann. Als das Sensibilisierungsmittel können verschiedeneArten von Sensibilisierungsfarbstoffen bevorzugt verwendet werden.Solche Sensibilisatoren könnenCyanin, Phthalocyanin, Merocyanin, Cumarin, Porphyrin, eine Spiro-Verbindung,Ferrocen, Fluoren, Fulgid, Imidazol, Perylen, Phenazin, Phenothiazin,Polyen, eine Azo-Verbindung, Diphenylmethan, Triphenylmethan, Polymethinacridin,Ketocumarin, Chinacridon, Indigo, Styryl, eine Squarylium-Verbindung,eine Pyrilium-Verbindung, eine Thiopyrilium-Verbindung, etc. einschließen, undaußerdemkönnenVerbindungen verwendet werden, die in EP 0 568 993 B , U.S.-Patenten Nr. 4,508,811und Nr. 5,227,227 offenbart sind.
    [0048] SpezifischeBeispiele fürden Sensibilisierungsfarbstoff mit einer Absorption im Bereich dessichtbaren Lichtes (360 bis 700 nm) sind unten erwähnt, aberdie vorliegende Erfindung ist durch sie nicht beschränkt.
    [0049] Inden letzten Jahren ist eine Ausgabemaschine entwickelt worden, inder eine Violett-Laserdiodeangebracht ist mit einer Oszillationswellenlänge von 360 bis 430 nm. DieseAusgabemaschine hat eine maximale Belichtungsenergiedosis von mehreren10 μJ/cm2 oder so, und ein zu verwendendes lichtempfindlichesMaterial ist erforderlich, das eine hohe Empfind lichkeit aufweist.In der vorliegenden Erfindung kann es verwirklicht werden, die lithographischeDruckplatte der vorliegenden Erfindung in dieser Ausgabemaschinezu verwenden, indem der oben genannte Sensibilisierungsfarbstoffin Kombination verwendet wird. Unter den oben erwähnten Sensibilisierungsfarbstoffenist die Pyrilium-Verbindung und die Thiopyrilium-Verbindung für die Violett-Laserdiodebevorzugt.
    [0050] Auchkann die lithographische Druckplatte der vorliegenden Erfindungin extrem geeigneter Weise für Lichtstrahlenim nahen Infrarotbereich bis zu Strahlen im Infrarotbereich, d.h.700 nm oder länger,verwendet werden, außerdemfür Abtastbelichtungunter Verwendung von Laserlicht im Wellenlängenbereich von 750 bis 1100nm. Spezifische Beispiele fürSensibilisierungsfarbstoffe, die zur Sensibilisierung der Zusammensetzung aufStrahlen im nahen Infrarotbereich verwendet werden können, sindunten dargestellt.
    [0051] EinPaar-Anion der beispielhaft angegebenen Sensibilisierungsfarbstoffe,wie oben erwähnt,bei dem das oben erwähnteorganische Bor-Anion ersetzt ist, kann in gleicher Weise in dervorliegenden Erfindung verwendet werden. Die Menge des Sensibilisierungsfarbstoffesbeträgtvorzugsweise 3 bis 300 mg pro 1 m2 der lithographischenDruckplatte, bevorzugter 10 bis 200 mg/m2.
    [0052] Alsdas in der vorliegenden Erfindung zu verwendende Bindemittelharzkann ein alkalilöslichesPolymer oder ein wasserlöslichesPolymer verwendet werden, und ein alkalilösliches Polymer wird besondersbevorzugt verwendet. Das in der vorliegenden Erfindung zu verwendendealkalilöslichePolymer ist ein Polymer, das sich in einer wässrigen Alkalilösung lösen kannoder durch diese entfernbar ist, und vorzugsweise ein Polymer miteinem oder mehreren Substituenten, wie etwa einer Hydroxylgruppe,einer phenolischen Hydroxylgruppe, einer Carboxylgruppe, einer Ammoniumsalzgruppe,etc. in der Wiederholungseinheit, die das Po lymer darstellt, insbesonderewird bevorzugt ein Polymer mit einer Carboxylgruppe verwendet.
    [0053] Alsdas oben genannte besonders bevorzugte alkalilösliche Polymer mit einer Carboxylgruppesind verschiedene Arten von Polymeren bevorzugt, die ein Copolymerumfassen, besonders bevorzugt ein Polymer, das erhalten ist durchCopolymerisation eines Monomers mit einer Carboxylgruppe und einesanderen copolymerisierbaren Monomers. Die Menge des Monomers miteiner Carboxylgruppe im Copolymer beträgt vorzugsweise 5 Gew.-% bis99 Gew.-%. Wenndie Menge niedriger ist als der obige Bereich, neigt das erhalteneCopolymer dazu, in der wässrigenAlkalilösungnicht löslichzu sein. Das Monomer, das eine Carboxylgruppe enthält, kannAcrylsäure,Methacrylsäure.2-Carboxyethylacrylat, 2-Carboxyethylacrylat, Crotonsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Monoalkylmaleat,Monoalkylfumarat, 4-Carboxystyrol,etc. einschließen.
    [0054] Alsdas besonders bevorzugte alkalilöslichePolymer in der vorliegenden Erfindung ist ein Copolymer besondersbevorzugt, das die oben genannte Carboxylgruppe und eine ethylenischeDoppelbindung, die in der Lage ist, einer Radikaladdition unterworfenzu werden, an der Seitenkette desselben aufweist, da sie eine lichtempfindlicheZusammensetzung mit der höchstenEmpfindlichkeit ergibt. Beispiele für solch ein Polymer mit einerDoppelbindung in der Seitenkette können verschiedene Polymereeinschließen,wie offenbart zum Beispiel in den japanischen PatentveröffentlichungenNr. Sho. 49-34041, Nr. Hei. 6-105353 und 2000-187322. Beispiele für die Polymere, die bevorzugtin der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind unten erwähnt. Inden Formeln bedeuten die Zahlen „Gew.-%" der entsprechenden Wiederholungseinheitenin der Copolymer-Zusammensetzung insgesamt als 100 Gew.-%.
    [0055] BevorzugtereBeispiele fürdie oben genannten Polymere mit einer Doppelbindung in der Seitenkette können diejenigenmit einer spezifischen Struktur, die unten erwähnt ist, als dem Doppelbindungsteileinschließen,da dieser eine besonders höhereEmpfindlichkeit ergibt und nur schwierig durch Sauerstoff beeinträchtigt wirdund keine Überzugsschichterforderlich ist,
    [0056] DasPolymer mit dem Substituenten, der dargestellt ist durch die obengenannte Formel, in der Seitenkette, ist ein Polymer, in dem derobige Substituent direkt oder indirekt durch eine Verknüpfungsgruppegebunden ist. Die Verknüpfungsgruppeist nicht spezifisch beschränktund eine fakultative Gruppe oder ein fakultatives Atom oder eineintegrierte Gruppe der Gruppe und des Atoms können erwähnt werden. Ein Polymer mitden oben erwähntenSubstituenten in der Seitenkette ist spezifischer ein Polymer mitder Gruppe, die durch die folgende Formel (II) repräsentiertist, in der Seitenkette.
    [0057] DieVerbindung der Formel (II) wird unten detaillierter erläutert. Alsdie VerknüpfungsgruppeZ1 wird zum Beispiel ein Sauerstoffatom,ein Schwefelatom, eine Alkylengruppe, eine Alkenylengruppe, eineArylengruppe, -N(R3)-, -C(O)-O-, -C(R4)=N-, -C(O)-, eine Sulfonylgruppe, eineheterocyclische Gruppe und eine Gruppe, die dargestellt ist durchdie folgende Formel, erwähntwerden, von denen jede allein sein kann oder eine komplexe Gruppevon zwei oder mehreren der obigen. Hier stellen R3 undR4 jeweils ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppeoder eine Arylgruppe dar. Überdieskönnen,bei dem oben genannten Verknüpfungsgruppen, wenigstenseine von einer Alkylgruppe, einer Arylgruppe und einem Halogenatomsubstituiert sein.
    [0058] Alsdie oben genannte heterocyclische Gruppe können zum Beispiel ein stickstoffhaltigerheterocyclischer Ring, wie etwa ein Pyrrol-Ring, ein Pyrazol-Ring,ein Imidazol-Ring, ein Triazol-Ring, ein Tetrazol-Ring, ein Isoxazol-Ring,ein Oxazol-Ring, ein Oxadiazol-Ring, ein Isothiazol-Ring, ein Thiazol-Ring,ein Thiadiazol-Ring, ein Thiatriazol-Ring, ein Indol-Ring, ein Indazol-Ring,ein Benzimidazol-Ring, ein Benzotriazol-Ring, ein Benzoxazol-Ring,ein Benzothiazol-Ring, ein Benzoselenazol-Ring, ein Benzothiadiazol-Ring,ein Pyridin-Ring, ein Pyridazin-Ring, ein Pyrimidin-Ring, ein Pyrazin-Ring,ein Triazin-Ring, ein Chinolin-Ring und ein Chinoxalin-Ring; undein Furan-Ring und ein Thiophen-Ring erwähnt werden; jeder von diesenkann mit wenigstens einem Substituenten substituiert sein.
    [0059] BevorzugteBeispiel fürdie durch die Formel (II) repräsentierteGruppe sind unten dargestellt, aber die vorliegende Erfindung istnicht durch diese beschränkt.
    [0060] Alsdie Verknüpfungsgruppein der oben genannten Formel (II) sind diejenigen bevorzugt, dieeinen heterocyclischen Ring enthalten, und diejenigen, in denenk1 1 oder 2 ist, sind ebenfalls bevorzugt.
    [0061] Alsdas durch die oben genannten verschiedenen Beispiele dargestelltePolymer mit der Doppelbindung ist es bevorzugt, daß es Löslichkeitin einer wässrigenalkalischen Lösungbesitzt, und ist besonders bevorzugt ein Polymer, das ein Monomermit einer Carboxylgruppe als eine copolymerisierbare Komponenteenthält.In diesem Fall ist, als ein Verhältnisder Gruppe, die durch Formel (I) dargestellt ist, in der Copolymerzusammensetzung,bevorzugt, daß sie1 Gew.-% bis 95 Gew.-% beträgt,bevorzugter 5 bis 80 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht des Copolymers.Wenn die Menge der durch die Formel (I) repräsentierten Gruppe geringerals 1 Gew.-%, kann die Wirkung der Einbeziehung der Gruppe in einigenFällennicht spürbarsein, während,wenn sie 95 Gew.-% übersteigt,das Polymer sich in einigen Fällennicht in einer wässrigenalkalischen Lösunglöst. Überdiesist es bevorzugt, daß esdas Monomer mit einer Carboxylgruppe im Copolymer in einer Mengevon 5 Gew.-% bis 99 Gew.-%,bezogen auf das Gesamtgewichts des Copolymers, enthält. Wenndie Menge des Monomers niedriger ist als 1 Gew.-%, löst sichdas Copolymer in einigen Fällennicht in einer wässrigenalkalischen Lösung.
    [0062] Alsdas oben erwähnteMonomer mit einer Carboxylgruppe können zum Beispiel Acrylsäure, Methacrylsäure, 2-Carboxyethylacrylat,2-Carboxyethylmethacrylat, Crotonsäure, Maleinsäure, Fumarsäure, Monoalkylmaleat,Monoalkylfumarat, 4-Carboxystyrol, etc., wie oben erwähnt, angeführt werden.
    [0063] Esist auch möglich,ein Copolymer herzustellen, indem ein anderes Monomer als das Monomermit einer Carboxylgruppe in das Copolymer eingebaut wird, um einMehrkomponenten-Copolymerzu bilden. Als solch ein in das Copolymer einzuarbeitendes Monomerkönnenzum Beispiel ein Styrol-Derivat, wie etwa Styrol, 4-Methylstyrol,4-Hydroxystyrol, 4-Acetoxystyrol,4-Carboxystyrol, 4-Aminostyrol, Chlormethylstyrol, 4-Methoxystyrol,etc.; Alkylmethacrylat, wie etwa Methylmethacrylat, Ethylmethacrylat,Butylmethacrylat, Hexylmethacrylat, 2-Ethylhexylmethacrylat, Cyclohexylmethacrylat,Dodecylmethacrylat, etc.; Arylmethacrylat oder Aralkylmethacrylat,wie etwa Phenylmethacrylat, Benzylmethacrylat, etc.; ein Methacrylsäureestermit einer Hydroxyalkylgruppe, wie etwa 2-Hydroxyethylmethacrylat, 2-Hydroxypropylmethacrylat,etc.; ein Methacrylsäureestermit einer Alkylenoxygruppe, wie etwa Methacrylsäuremethoxydiethylenglykolmonoester,Methacrylsäuremethoxypolyethylen-glykolmonoester,Methacrylsäurepolypropylenglykolmonoesteretc.; Methacrylat mit einer Aminogruppe, wie etwa 2-Dimethylaminoethylmethacrylat,2-Diethylaminoethylmethacrylat, etc.; oder den oben genannten Methacrylatenentsprechende Acrylate; ein Monomer mit einer Phosphatgruppe, wieetwa Vinylphosphonsäure,etc.; ein Monomer mit einer Aminogruppe, wie etwa Allylamin, Diallylamin, etc.;ein Monomer mit einer Sulfonsäuregruppe,wie etwa Vinylsulfonsäureoder ein Salz derselben, Allylsulfonsäure oder ein Salz derselben,Methallylsulfonsäureoder ein Salz derselben, Styroisulfonsäure oder ein Salz derselben,2-Acrylamid-2-methylpropansulfonsäure oderein Salz derselben, etc.; ein Monomer mit einem stickstoffhaltigenheterocyclischen Ring, wie etwa 4-Vinylpyrrolidin, 2-Vinylpyrrolidin,N-Vinylimidazol,N-Vinylcarbazol, etc.; ein Monomer mit einer quartären Ammoniumsalzgruppe,wie etwa 4-Vinylbenzyltrimethylammoniumchlorid, Acryloyloxyethyltrimethylammoniumchlorid,Methacryloyloxyethyltrimethylammonium-chlorid, ein quaternisiertesProdukt von Dimethylaminopropylacrylamid durch Methylchlorid, einquaternisiertes Produkt von N-Vinylimidazoldurch Methylchlorid, 4-Vinylbenzylpyridiniumchlorid, etc.; Acrylnitril,Methacrylnitril, etc.; ein Acrylamid- Methacrylamid-Derivat, wieetwa Acrylamid, Methacrylamid, Dimethylacrylamid, Diethylacrylamid,N-Isopropylacrylamid, Diacetonacrylamid, N-Methylolacrylamid, N-Methoxyethylacrylamid,4-Hydroxyphenylacrylamid, etc.; Phenylmaleimid, Hydroxyphenylmaleimid;ein Vinylester, wie etwa Vinylacetat, Vinylchloracetat, Vinylpropionat,Vinylbutyrat, Vinylstearat, Vinylbenzoat, etc.; ein Vinylether,wie etwa Methylvinylether, Butylvinylether, etc.; und andere Monomere,wie etwa N-Vinylpyrrolidon, Acryloylmorpholin, Tetrahydrofurfurylmethacrylat,Vinylchlorid, Vinylidenchlorid, Allylalkohol, Vinyltrimethoxysilan,Glycidylmethacrylat und dergleichen, erwähnt werden. Als ein Verhältnis dieserMonomere, die keine Carboxylgruppe aufweisen, in der Copolymerzusam mensetzungkönnensie fakultativ in die Zusammensetzung mit einem beliebigen Verhältnis eingearbeitetwerden, solange die Verhältnisseder Gruppe, repräsentiertdurch die Formel (I), und des Monomers mit einer Carboxylgruppein bevorzugten Bereichen gehalten werden.
    [0064] DasMolekulargewicht des oben genannten Copolymers liegt vorzugsweiseim Bereich von 1.000 bis 1.000.000, bevorzugter 10.000 bis 300.000,ausgedrücktals Molekulargewicht im Gewichtsmittel (Mw).
    [0065] DasVerhältnisdes Polymers der vorliegenden Erfindung in der lichtempfindlichenSchicht liegt vorzugsweise im Bereich 10 Gewichtsteile bis 80 Gewichtsteile,bevorzugter 20 Gewichtsteile bis 80 Gewichtsteile, bezogen auf 100Gewichtsteile in den die lichtempfindliche Schicht darstellendenKomponenten insgesamt.
    [0066] Beispielefür dasPolymer mit der Gruppe, dargestellt durch Formel (I), gemäß der vorliegendenErfindung sind unten dargestellt. In den Formeln bedeutet die ZahlGew.-% der entsprechenden Wiederholungseinheiten im Copolymer, bezogenauf das Gesamtgewicht als 100 Gew.-%.
    [0067] Dielichtempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung kannvorzugsweise andere Komponenten als diejenigen, wie oben erwähnt, für die verschiedenenZwecke enthalten. Es ist besonders bevorzugt, verschiedene Artenvon Polymerisationsinhibitoren zuzusetzen, um die Styrylgruppenan thermischer Polymerisation oder thermischer Vernetzung zu hindernund die Haltbarkeit füreinen längerenZeitraum zu verbessern. Als die Polymerisationinhibitoren in diesemFall könnenvorzugsweise verschiedene Arten von Verbindungen mit einer phenolischenHydroxylgruppe, wie etwa Hydrochinone, Catechole, Naphthole, Cresole, etc.,oder Chinonverbindungen, besonders bevorzugt Hydrochinon, verwendetwerden. Eine Men ge des Polymerisationsinhibitors in diesem Falleliegt vorzugsweise im Bereich von 0,1 bis 10 Gewichtsteilen, bezogenauf 100 Gewichtsteile des Polymers.
    [0068] Alsein Elemente) der lithographischen Druckplatte, können verschiedeneArten von Farbstoffen oder Pigmenten vorzugsweise zum Zweck derErhöhungder Erkennbarkeit des Bildteils mit den Augen zugesetzt werden oderanorganische Feinteilchen oder organische Feinteilchen zum Zweckeder Verhinderung der Blockierung der lichtempfindlichen Zusammensetzungzugesetzt werden.
    [0069] Alsdie oben genannten Pigmente könnenzum Beispiel ein schwarzes Pigment, ein gelbes Pigment, ein orangesPigment, ein braunes Pigment, ein rotes Pigment, ein purpurfarbenesPigment, ein blaues Pigment, ein grünes Pigment, ein fluoreszierendesPigment, ein Metallpulver-Pigment, ein Polymerbindungsfarbstoff,etc. erwähntwerden. Genauer könnenein unlöslichesAzo-Pigment, ein Azolack-Pigment, ein kondensiertes Azo-Pigment,ein Chelatazo-Pigment, ein Phthalocyanin-Pigment, ein Anthrachinon-Pigment,Perylen und ein Perylen-Pigment,ein Pigment vom Thioindigo-Typ, ein Chinacridon-Pigment, ein Dioxazin-Pigment, einIsoindolinon-Pigment, ein Chinophthalon-Pigment, ein Lackfarbstoff-Pigment,ein Azin-Pigment,ein Nitroso-Pigment, ein Nitro-Pigment, ein natürliches Pigment, ein fluoreszierendesPigment, ein anorganisches Pigment, Ruß, etc. erwähnt werden.
    [0070] DiesePigmente könnenohne Durchführungder Oberflächenbehandlungverwendet werden oder könnennach Durchführungder Oberflächenbehandlungverwendet werden. Beim Oberflächenbehandlungsverfahrenkann ein Verfahren, bei dem ein Harz oder Wachs einer Oberflächenbeschichtungunterzogen wird, ein Verfahren zur Adhäsion eines Tensids, ein Verfahrenzur Bindung einer reaktiven Substanz (zum Beispiel eines Silan-Kopplungsmittels,einer Epoxyverbindung, eines Polyisocyanats, etc.) an die Oberfläche desPigments und dergleichen erwähntwerden. Die oben genannten Oberflächenbehandlungsverfahren sindbeschrieben in „Characteristicsand Application of Metallic Soap" (veröffentlichtvon Saiwai Shobo, Japan), „PrintingInk Technology" (veröffentlichtvon CMC Publishing, 1984, Japan) und „Latest Pigment ApplicationTechnology" (veröffentlichtvon CMC Publishing, 1986, Japan).
    [0071] DieTeilchengröße des obengenannten Pigments liegt vorzugsweise im Bereich von 0,01 bis 10 μm, bevorzugtervon 0,05 bis 1 μm,besonders bevorzugt 0,1 bis 1 μm.Wenn die Teilchengröße des Pigmentsgeringer ist als 0,01 μm,ist dies im Hinblick auf die Stabilität der dispergierenden Materialienin der Beschichtungslösungfür dielichtempfindliche Schicht nicht bevorzugt, während es, wenn sie 10 μm übersteigt,im Hinblick auf die Gleichförmigkeitder lichtempfindlichen Schicht nicht bevorzugt ist.
    [0072] Alsein Verfahren zum Dispergieren der oben genannten Pigmente können herkömmlich bekannteDispergiertechniken verwendet werden, die zur Tintenherstellungoder Tonerherstellung verwendet werden. Als eine Dispergiermaschinekann zum Beispiel eine Ultraschalldispergiermaschine, eine Sandmühle, einAttritor, eine Perlenmühle,eine Supermühle,ein Impeller, ein Dispergierer, eine KD-Mühle, eine Kolloidmühle, einDynatron, eine Dreiwalzenmühle,ein Druckkneter, etc. erwähntwerden. Details sind beschrieben in „Latest Pigment ApplicationTechnology" (veröffentlichtvon CMC Publishing, 1986, Japan).
    [0073] DieDicke der lichtempfindlichen Schicht selbst, die als eine lithographischeDruckplatte verwendet werden soll, liegt vorzugsweise im Bereichvon 0,5 μmbis 10 μm,mit einer getrockneten Dicke auf dem Träger, besonders bevorzugt imBereich von 1 μmbis 4 μmfür denZweck der merkbaren Verbesserung der Druckdauerhaftigkeit. Die lichtempfindlicheSchicht kann auf dem Trägerdurch Verwendung eines herkömmlichbekannten Beschichtungssystem bereitgestellt und getrocknet werden.
    [0074] Für die Verwendungeines Materials mit der lichtempfindlichen Schicht, ausgebildetauf dem Träger, wieoben erwähnt,als eine Druckplatte wird vorzugsweise eine Belichtung durch Abtastenmit einem Laserstrahl durchgeführt.Durch diese Belichtung wird der belichtete Bereich vernetzt, sodaß seineLöslichkeitgegenübereinem Alkali-Entwickler verringert wird, und der nicht-belichteteTeil wird von dem Alkali-Entwickler herausgelöst, um ein Muster zu bilden.
    [0075] Derin der vorliegenden Erfindung zu verwendende Alkali-Entwickler hatvorzugsweise einen pH bei 25°Cvon 10 oder mehr, besonders bevorzugt im Bereich von 10 bis 12.Als eine alkalische Verbindung, um den pH des Entwicklers im obengenannten Bereich herzustellen, kann eine alkalische Verbindung,wie etwa Natriumhydroxid, Kaliumhydroxid, Natriumsilikat, Kaliumsilikat,Natriummetasilikat, Kaliummetasilikat, Monoethanolamin, Diethanolamin,Triethanolamin, Triethylammoniumhydroxid, etc., besonders bevorzugtAlkanolamin, die als ein wäßriger Entwicklerverwendet werden, erwähntwerden. Überdieskönnenvorzugsweise verschiedene Arten von Alkoholen, wie etwa Ethanol,Propanol, Isopropanol, Ethylenglykol, Diethylenglykol, Triethylenglykol,Glycerin, Benzylalkohol, etc., zum Alkali-Entwickler zugegeben werden.Auch werden verschiedene Arten von Tensiden vorzugsweise ebenfallszugegeben. Nach Unterwerfen unter die Entwicklungsbehandlung unterVerwendung des Alkali-Entwicklers wird vorzugsweise eine übliche Finishbehandlungdurch Verwendung von Gummi arabicum, Dextrinen, etc. durchgeführt.
    [0076] Imfolgenden wird die vorliegenden Erfindung detaillierter durch Bezugnahmeauf Beispiele erläutert, aberdie vorliegende Erfindung ist durch diese Beispiele nicht beschränkt.
    [0077] EinSchmelzbad wurde hergestellt durch Verwendung einer Aluminiumlegierung,die 0,06 Gew.-% Si, 0,30 Gew.-% Fe, 0,005 Gew.-% Cu, 0,001 Gew.-%Mn, 0,001 Gew.-% Mg, 0,001 Gew.-% Zn, 0,03 Gew.-% Ti enthält, wobeider Rest Al und unvermeidbare Verunreinigungen sind. Nach Unterwerfenunter Schmelzbadbehandlung und Filtration wurde ein Gußblock miteiner Dicke von 500 mm und einer Breite von 1200 mm mit dem DC- Gußverfahrenhergestellt. Die Oberflächedesselben wurde mit einer Oberflächenschneidmaschine miteiner durchschnittlichen Dicke von 10 mm entfernt, das Materialwurde füretwa 5 Stunden unter gleichförmigerErhitzung bei 550°Cgehalten, und nach Abkühlenauf eine Temperatur von 400°Cwurde es warmgewalzt durch Verwendung einer Warmwalzmaschine, umeine zusammengedrücktePlatte mit einer Dicke von 2,5 mm herzustellen. Überdies wurde durch Verwendungeiner kontinuierlichen Maschine zum Spannungsfreiglühen einethermische Behandlung bei 500°Cdurchgeführtund die Platte wurde durch Kaltwalzen fertiggestellt, um eine Aluminiumplattemit einer Dicke von 0,24 mm herzustellen. Die Breite der Aluminiumplattewurde auf 1030 mm eingestellt und anschließend wurden die folgenden Oberflächenbehandlungennacheinander durchgeführt.
    [0078] Alkaliätzbehandlung:Die wie oben erwähnterhaltene Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlung unterworfen, indemeine Flüssigkeit,die 2,6 Gew.-% Natriumhydroxid, 6,5 Gew.-% Aluminium-Ionenkonzentrationenthielt, mit einer Temperatur von 70°C aufgesprüht wurde, um die Aluminiumplattemit einer Menge von 6 g/m2 zu lösen. Danachwurde Waschen mit Wasser durch Aufsprühen durchgeführt.
    [0079] Desmutbehandlung:Desmutbehandlung wurde durchgeführt,indem eine 1 Gew.-% wässrigeSalpetersäurelösung (die0,5 Gew.-% Aluminium-Ionen enthielt) bei einer Temperatur von 30°C aufgesprüht wurde, undanschließendwurde Waschen mit Wasser durch Aufsprühen durchgeführt. DiewässrigeSalpetersäurelösung, diefür dasobige Desmutieren verwendet wurde, war ein entsorgte Lauge im Schrittdes Unterwerfens unter eine elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlungdurch Verwendung eines Wechselstroms in einer wässrigen Salpetersäurelösung.
    [0080] ElektrochemischeOberflächenaufrauungsbehandlung:Elektrochemische Oberflächenaufrauungsbehandlungwurde kontinuierlich durchgeführtdurch Verwendung eines Wechselstroms mit 60 Hz. Der zu diesem Zeitpunktverwendete Elektrolyt umfasste 10,5 g/Liter wässrige Salpetersäurelösung (die0,5 Gew.-% Aluminium-Ionen enthielt) mit einer Temperatur von 50°C. Die elektrochemischeOberflächenaufrauungsbehandlung wurdedurchgeführtunter den Bedingungen einer Zeit TP, in der ein Stromwert von 0bis zu einem Peak in einer Wechselstromquellenwellenform von 0,8ms erreicht, eines DUTY-Verhältnissesvon 1:1, durch Verwendung eines Wechselstroms mit trapezoidalerRechteckwelle und einer Kohlenstoffelektrode als einer Gegenelektrode.Ferrit wurde als eine Hilfsanode verwendet. Zwei Elektrolysebäder wurdenverwendet. Die Stromdichte betrug 30 A/dm2 beimPeakwert des Stroms und die elektrische Menge betrug 220 C/dm2 mit der Summe der elektrischen Mengen,wenn die Aluminiumplatte eine Anode war. An die Hilfsanoden wurden5% des aus der Stromquelle abgezapften Stroms abgeleitet. Danachwurde Waschen mit Wasser durch Aufsprühen durchgeführt.
    [0081] Alkaliätzbehandlung:Die Aluminiumplatte wurde einer Ätzbehandlungunterworfen, indem eine Flüssigkeit,die 26 Gew.-% Natriumhydroxid, 6,5 Gew.-% Aluminium-Ionenkonzentrationenthielt, mit einer Temperatur von 32°C aufgesprüht wurde, um die Aluminiumplattemit einer Menge von 0,20 g/m2 zu lösen, wodurch Schmutzkomponenten,die hauptsächlichAluminiumhydroyxid umfassten, das bei der oben genannten elöektrochemischenOberflächenaufrauungsbehandlunggebildet wurde, durch Verwendung des Wechselstroms entfernt wurdenund ein Kantenbereich durch Lösenvon Kantenbereichen der gebildeten Vertiefungen geglättet wurde.Danach wurde Waschen mit Wasser durch Aufsprühen durchgeführt.
    [0082] Desmutbehandlung:Desmutbehandlung wurde durchgeführtdurch Aufsprüheneiner 25 Gew.-% wässrigenSchwefelsäurelösung (die0,5 Gew.-% Aluminium-Ionen enthielt) mit einer Temperatur von 60°C und anschließend wurdeWaschen mit Wasser durch Aufsprühendurchgeführt.
    [0083] Anodisierungsbehandlung:Anodisierungsbehandlung wurde durchgeführt durch Verwendung einer Anodisierungsvorrichtungmit einem Elektrolyseverfahren mit zweistufiger Zuführung (Längen derersten und der zweiten Elektrolyseteile betrugen jeweils 6 m, Längen derersten und der zweiten Zuführteilebetrugen jeweils 3 m und Längender ersten und der zweiten Elektrodenteile betrugen 2,4 m). Schwefelsäure wurdeals Elektrolyte verwendet, die den ersten und den zweiten Elektrolyseteilenzugeführtwurden. Die Elektrolyte waren jeweils eine Schwefelsäurekonzentrationvon 50 g/Liter (die 0,5 Gew.-% Aluminium-Ionen enthielt) mit einerTemperatur von 20°C.Danach wurden Waschen mit Wasser durch Aufsprühen durchgeführt. DieMenge des endgültigenOxidationsfilms betrug 2,7 g/m2.
    [0084] DurchVerwendung der Behandlungsflüssigkeitmit den in der folgenden Tabelle 1 dargestellten Zusammensetzungenwurde die Behandlung unter der Temperatur und Zeit, die in Tabelle1 dargestellt sind, durchgeführt.Als eine wässrigeKaliumsilikatlösungwurde eine wässrigeKaliumsilikatlösungverwendet, die erhältlichist von Tama Chemicals Co., Ltd. Die Menge an SiO2,die darin enthalten ist, betrug 20 Gew.-% und solche, die 10 Gew.-%KOH enthielten, wurden ebenfalls in Kombination verwendet. DurchHinzufügender wäßrigen Kaliumsilikatlösung undKOH wurde das Verhältnisvon SiO2/K2O eingestellt,wie in Tabelle 1 angegeben. Tabelle1
    [0085] Aufdem wie oben erwähnthergestellten Aluminiumträgerwurde durch Beschichten eine lichtempfindliche Beschichtungslösung aufgebracht,die mit der folgenden Rezeptur angegeben ist, mit einer Trockendicke von2,0 μm,und Trocknen wurde in einem Trocknungsofen bei 75°C für 6 Minutendurchgeführt. < LichtempfindlicheBeschichtungslösung > Photoradikalgenerator(BD-6) 1Teil Trihalo-substituierteAlkylverbindung (T-4) 0,5Teil Bindemittelharz(P-1) 11Teile Sensibilisierungsfarbstoff(S-34) 0,5Teil Dioxan 70Teile Cyclohexan 20Teile
    [0086] Daswie oben erwähnthergestellte lithographische Druckplattenmaterial wurde einer Belichtungunterworfen durch Verwendung einer Ausgabemaschine, ImagesetterPT-R4000 (Handelsname), hergestellt von Dainippon Screen MFG Co.,Ltd. (Oszillationswellenlänge:830 nm, Ausgangsleistung; 100 mW), und mit Entwickler 1 mit derfolgenden Rezeptur bei 30° für 30 Sekundenbehandelt, und anschließendwurde die Gummiflüssigkeitmit der folgenden Rezeptur darauf aufgebracht. < Entwickler 1 > KOH 30g 20%wässrigeKaliumsilikatlösung(die 20% SiO2 enthält) 25g EmulgenMS 110 (erhältlichvon KAO) 0,1g
    [0087] Aufgefüllt auf1 Liter mit Wasser, und der pH wurde eingestellt auf 13,5 (25°C). < Gummiflüssigkeit > Monokaliumphosphat 20g Gummiarabicum 30g Natriumdehydroacetat 0,5g EDTA2Na (Dinatriumethylendiamintetraacetat) 1g
    [0088] MitWasser auf 1 Liter aufgefüllt.
    [0089] DieEigenschaften der wie oben erwähnthergestellten Druckplatte wurden bewertet. Drucken wurde durchgeführt durchVerwendung einer Druckmaschine, Heidelberg KORD, (Handelsname, eineOffset-Druckmaschine, hergestellt von Heidelberg Co.). Tinte (NewChampion Black H, Handelsname, erhältlich von Dainippon Ink Co.,Japan) und einer kommerziell verfügbaren Dämpfungslösung für eine PS-Platte (AstromarkIII, Handelsname, erhältlichvon Nikken Chemicals Co., Ltd.) bis 200.000 Blätter, und die Druckdauerhaftigkeit wurdebewertet. Die Druckdauerhaftigkeit wurde durch die Anzahl von gedrucktenBlätternbewertet, bis entweder die Tintenadhäsion des Bildteils schlechtwurde oder eine feine Linie verschwand.
    [0090] DieErgebnisse sind in Tabelle 2 dargestellt.
    [0091] EinDruckfleckentest wurde durchgeführt,wie unten angegeben. Drucken wurde durchgeführt durch Verwendung einerDruckmaschine, Heidelberg KORD (Handelsname, eine Offset-Druckmaschine, hergestellt vonHeidelberg Co.), Tinte (HYECOO Magenta (M), Handelsname, erhältlich vonDainippon Ink Co., Japan) und einer herkömmlich verfügbaren Dämpfungslösung für eine PS-Platte (AstromarkIII, Handelsname, erhältlichvon Nikken Chemicals Co., Ltd.) bis 200.000 Blatt, und der akkumulierteZustand der Tinte im Nicht-Bildbereichauf dem Tuch und der Zustand des gedruckten Materials wurden mitnacktem Auge mit dem folgenden Standard bewertet. O: Auf demTuch tauchten keine Flecken auf. Δ: Akkumulation von Tinte aufdem Tuch wurde beobachtet, aber auf den gedruckten Materialien tratenkeine Flecken auf. X: Flecken traten auf den gedruckten Materialienauf. Tabelle2
    [0092] Wieman aus den in Tabelle 2 angegebenen Ergebnissen sehen kann, betrugdie Anzahl von Blättern mitguter Qualität,bei den Druckplatten der Vergleichsbeispiele, jeweils 100.000 Blattoder weniger oder es traten Druckflecken auf, so daß sie alseine Druckplatte ungenügendwaren. Andererseits sieht man, daß, bei den Druckplatten dervorliegenden Erfindung, diese eine Druckhaftigkeit von 150.000 odermehr hatten und keine Flecken auftraten.
    [0093] Indiesem Beispiel wurde der pH des Entwicklers untersucht. Die Druckplattender Vergleichsbeispiele 1 bis 5 und der vorliegenden Erfindung 1bis 8, hergestellt in derselben Weise wie in Beispiel 1, wurdeneiner Einwirkung in derselben Weise wie in Beispiel 1 unterworfen.Anschließendwurden, in den in Beispiel 1 verwendeten Prozessor, Entwickler 2mit der unten angegebenen Rezeptur und die Gummiflüssigkeit,die in Beispiel 1 verwendet wurde, eingebracht, und die Plattenherstellungsbehandlungwurde durchgeführtunter den Entwicklungsbedingungen von 30°C für 20 Sekunden, und die Gummiflüssigkeitwurde darauf aufgebracht. < Entwickler 2 > N-Methylethanolamin 30g PelexNBL (erhältlichvon KAO) 50gPhosphorsäure 10g 48%KOH 50g
    [0094] MitWasser auf 1 Liter aufgefüllt.
    [0095] DerpH des Entwicklers wurde auf 11,5 eingestellt (25°C). Hierist Pelex NBL eine wässrigeLösung vomAlkylnaphthalinsulfonsäure-Typ.
    [0096] Dieso hergestellten Druckplatten wurden durch Durchführung desDrucktests in derselben Weise wie in Beispiel 1 bewertet. Die Ergebnissesind in Tabelle 3 angegeben. Tabelle3
    [0097] Wieman aus den in Tabelle 3 angegebenen Ergebnissen sehen kann, warendie Bewertungen, bei den Vergleichsbeispielen 1 bis 5, für die Druckdauerhaftigkeitbesser als diejenigen von Beispiel 1, die in Tabelle 2 angegebensind, aber es traten Flecken im Nicht-Bildbereich der gedrucktenMaterialien auf. Insbesondere konnte, in Vergleichsbeispiel 1 und5, Restfilm, der im Nicht-Bildbereich auftrat, und die lichtempfindliche Schichtnicht vollständigvon der Oberflächeder lithographischen Druckplatte entfernt werden. Andererseits siehtman, daß,bei den Druckplatten der vorliegenden Erfindung, diese eine Druckdauerhaftigkeitvon 200.000 Blatt oder mehr haben und keine Flecke auf dem gedrucktenMaterial und auf dem Tuch auftraten.
    权利要求:
    Claims (7)
    [1] Ein Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte unter Verwendung einer Aluminiumplatteals einen Trägerund mit einer lichtempfindlichen Schicht, die auf dem Träger bereitgestelltwird, welches umfaßt,daß derAluminiumträgernach einer Anodisierungsbehandlung einer Behandlung in einem Alkalisilikatmit einer Konzentration von SiO2 von 1 bis4 Gew.-%, einer Konzentration eines Alkalimetallhydroxids von 0,5bis 5 Gew.-% und einem MolverhältnisSiO2/M2O, wobeiM ein Alkalimetall darstellt, im Bereich von 0,3 bis 1,5 bei 50bis 70°Cfür 20Sekunden oder kürzerunterworfen wird.
    [2] Das Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach Anspruch 1, wobei das AlkalimetallKalium ist.
    [3] Das Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach Anspruch 1, wobei die lichtempfindlicheSchicht eine photopolymerisierbare Schicht ist, die wenigstens einPolymer, das ein Monomer mit einer polymerisierbaren Doppelbindungin einer Seitenkette und einer Carboxylgruppe umfaßt, undein organisches Borsalz enthält.
    [4] Das Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach Anspruch 1, wobei die photopolymerisierbareSchicht weiter eine ethylenisch ungesättigte Verbindung enthält.
    [5] Das Verfahren zur Herstellung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach Anspruch 3 oder 4, wobei die photopolymerisierbareSchicht weiter einen Sensibilisierungsfarbstoff enthält.
    [6] Eine Methode zur Verarbeitung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach einem der Ansprüche 1 bis5, die umfaßt,daß dielithographische Druckplatte nach der Bildbelichtung einer Entwicklung miteinem wässrigenEntwickler mit einem pH von 10 bis 12 unterworfen wird.
    [7] Die Methode zur Verarbeitung einer lichtempfindlichenlithographischen Druckplatte nach Anspruch 6, wobei die Bildbelichtungdurch Laserbelichtung durchgeführtwird.
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    同族专利:
    公开号 | 公开日
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    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    法律状态:
    2005-03-17| OP8| Request for examination as to paragraph 44 patent law|
    2009-01-22| 8139| Disposal/non-payment of the annual fee|
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
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